기사요약
일본 캐논이 최근 판매를 시작한 반도체 생산용 노광장비 ‘나노 임프린트 노광 시스템’을 소개했다. 노광공정은 반도체 웨이퍼에 빛을 쪼아 미세한 설계 회로를 새겨넣는 필수 작업으로, 회로의 선폭이 좁아지고 세밀해질수록 더 높은 단계의 노광장비가 필요하다. 현재 극자외선(EUV) 노광장비 시장은 네덜란드 ASML이 사실상 독점하고 있는 구조로, 캐논은 자사 신제품을 무기로 독점 시장을 깬다는 전략이다. 캐논은 나노 임프린트 노광시스템이 5나노미터(nm·1nm은 10억분의 1m) 공정과 동등한 수준의 반도체를 제조할 수 있으며, 최대 2나노까지 작아질 수 있는 잠재력이 있다고 설명했다. 나노 임프린트 기술은 기존 광학 노광 방식과 특허를 피하면서 원하는 반도체 설계도를 웨이퍼에 직접 인쇄하는 방식이다.
포스트를 마치며...
현재 압도적인 노광장비 독점을 하고 있는 ASML을 막을 유일한 기업이라 볼 수도 있다. 어느 한 분야에서 독점은 굉장히 좋지 않기 때문에 만약 일본의 캐논이 노광장비를 성공적으로 전 세계 기업에 수출하게 된다면 ASML의 독점을 깰 수 있다. 물론 캐논이 단번에 독점을 무너뜨리기는 쉽지 않겠지만, 소량 주문 제작 제품이나 회로 패턴이 복잡한 제품 등 특정 제품 카테고리에서는 우위를 점할 수 있을 것으로 보인다.
https://n.news.naver.com/mnews/article/081/0003404340?sid=101
캐논 광학기술 캐논 앞세워 ASML 아성 도전하는 일본 반도체
반도체 ‘소부장(소재·부품·장비)’ 강국을 넘어 세계 반도체 시장을 호령했던 1980년대 ‘신화’ 재현에 나선 일본 반도체 산업이 한국과 대만 추격에 속도를 내고 있다. 이미 세계 최고 기술
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